利用双多晶硅差分设计提高 MEMS 麦克风信噪比

在追求 高保真语音和声学传感MEMS 麦克风设计人员不断挑战极限,以满足客户的需求。 灵敏度、带宽特别是 信噪比(SNR).在提高信噪比的同时保持紧凑的占地面积是最有效的技术之一。 差分电容式设计特别是使用 双多晶硅微细加工平台.

最近的一项研究展示了 差分 MEMS 麦克风的设计与实现 它采用沟槽填充 MOSBE 工艺,仅利用两层多晶硅结构层就实现了令人印象深刻的声学性能指标。

差分式 MEMS 麦克风的优势是什么?

与传统的单端设计不同、 差分 MEMS 麦克风 使用成对的电极来消除共模噪声和环境干扰。其结果是

  • 改进 灵敏度和信噪比
  • 更强的抵抗力 机械或电气噪音
  • 增强型 语音识别系统和音频采集的清晰度

报告的设计巧妙地整合了 上下隔膜相应背板形成两个不同的电容传感电极对。电分离是通过一个 硅隔离层允许 真差分读数 将复杂性降到最低。

性能亮点

📌 制作麦克风的主要规格:

  • 差分灵敏度:-40.5 dB(相对于:1 V/1 Pa)
  • 单端灵敏度:~-46 dB
  • 信噪比 (SNR):完毕 57.8 分贝
  • 带宽:50 Hz - 22 kHz(±3 dB)
  • 足迹直径: 800 微米

这些特点使麦克风非常适合于以下用途

  • 声控助手
  • 智能扬声器和耳塞
  • 录音室品质的便携式音频设备
  • 助听器和辅助听力系统

🎧 想了解针对高信噪比和紧凑外形进行了优化的 MEMS 麦克风?
浏览我们的 MEMS 麦克风产品目录

制造方法:两层多晶硅,一种智能设计

该设计采用 沟槽回填式 MOSBE 工艺 其中包括

  • 两个 多晶硅结构层
  • 两个 牺牲的 SiO₂ 层
  • 一个 电气隔离层 (Si₃N₄)

创新的机械功能,如 U 型弹簧中央职位 包括确保膜片稳定性、减少结构应力和保持均匀振动 - 所有这些都有助于实现卓越的信噪比性能。

为什么这很重要

MEMS 麦克风越来越多地应用于以下领域 支持人工智能, 电池供电 系统,其中 抗噪性、清晰度功率效率 这一点至关重要。差分架构提供了一条可扩展的途径,可在不大幅增加成本或复杂性的情况下提高性能。

相关研究和外部参考资料:

结论

这种差分微机电系统麦克风设计采用了 双层多晶硅工艺它将以下功能强大地结合在一起 高灵敏度、宽带宽出色的抗噪能力.这些改进使制造商能够满足日益增长的需求,包括 低功耗、高保真 MEMS 音频解决方案 在当今的智能和移动电子产品领域。

💡 进一步了解 SISTC 在 MEMS 麦克风技术方面的创新:
👉 https://sistc.com/product-category/mems-microphone/

滚动至顶部